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Extraction of the Schottky parameters in metal-semiconductor-metal diodes from a single current-voltage measurement

机译:金属 - 半导体 - 金属中肖特基参数的提取   单电流 - 电压测量的二极管

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摘要

In order to develop a method to extract the parameters of the two inherentSchottky contacts from a single current-voltage (I-V) characteristic curve, theI-V characteristics of metal-semiconductor-metal (MSM) diodes with asymmetricSchottky barrier heights are theoretically investigated using the thermionicemission model. The MSM diode structure is commonly used because an additionalMS interface is required for the electrical characterization of MS diodes. Afinite charge-injection barrier is generally formed at the additionalinterface. When a local maximum was detected in the first-order derivative ofthe measured I-V characteristics for a MSM diode, the parameters for theSchottky contacts, the zero-bias barrier heights of both MS interfaces, theseries resistance of the MSM diode and the effective ideality factor for the MSdiode with a higher barrier could be extracted using this method.
机译:为了开发一种从一条电流-电压(IV)特性曲线中提取两个固有肖特基接触的参数的方法,理论上使用热离子发射模型。通常使用MSM二极管结构,因为需要额外的MS接口来实现MS二极管的电气特性。通常在附加界面处形成有限的电荷注入势垒。当在MSM二极管的测量IV特性的一阶导数中检测到局部最大值时,肖特基触点的参数,两个MS接口的零偏置势垒高度,MSM二极管的串联电阻和有效的理想因数使用这种方法可以提取出具有较高势垒的MSdiode。

著录项

  • 作者

    Nouchi, Ryo;

  • 作者单位
  • 年度 2014
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种
  • 中图分类

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